Описание проекта
Цель проекта: создание плазменного реактора для прецизионных технологий атомно-слоевого травления материалов электронной промышленности с возможностью напуска трех различных типов прекурсоров и газов.
Будет разработан универсальный плазменный реактор для прецизионных аддитивных технологий с возможностью использования в одном реакторе двух различных плазменных источников с встроенными системами контроля основных характеристик плазмы в реакторе, что обеспечит возможность настройки технологических условий для использования различных типов прекурсоров как для технологии атомно-слоевого осаждения, так и технологии атомно-слоевого травления материалов электронной промышленности. Одновременное использование водном реакторе прецизионных технологий атомно-слоевого осаждения и атомно-слоевого травления позволит создать 3D наноразмерные структуры для компонент электронной промышленности.
Задачи проекта:1 Разработка цифрового двойника плазменного реактора и всех его комплектующих;
2 Разработка систем дозированного напуска прекурсоров и управляемого регулирования давления газа в реакторе;
3 Тестирование прототипа плазменного реактора.
Ожидаемые результаты: Плазменный реактор для технологии АСТ с возможностью ввода не менее трех прекурсоров.
Заинтересованные организации: Группа компаний МИКРОН;АО НПП КВАНТ; АО «Ангстрем»; ООО «Крокус наноэлектроника»; Предприятия ОПК, в частности АО «Концерн КЭМЗ»; Институт физических проблем имени П. Л. Капицы РАН
Конкурентные преимущества нашей разработки: Возможность использования двух плазменных источников и подбор параметров плазмы под различные типы материала прекурсора и подложки и под технологии АСО и АСТ в одном реакторе.
